リソグラフィの歴史と今後の展望

摘要

Lithography is one of the key technologies for semiconductor device shrink. For example, wave length becomes shorter and numerical aperture becomes larger with advanced exposure tools to meet the device shrink requirements. However, as the device shrink continues, it is harder to meet the requirements by lithography technology only. This is the reason why total optimization concept is introduced. The concept considers several metrics and/or several different technologies at the same time to improve a yield and to reduce a pattern size. DFM is one of the total optimization methods and it provides a layout methodology corresponding to process performance. In this paper, we will review the history of lithography and device shrink trend and also will discuss the total optimization concept along with several examples which the proposed concept is applied to. Furthermore we will discuss the goal of total optimization concept with the future trend of lithography technology.%リソグラフィ技術は，半導体を微細化するために大きな役割を担ってきた技術の一つである．例えばリソグラフィ工程で用いられる露光装置は，露光波長の短波長化，レンズの大口径化を進めることにより微細化要求に応えてきた．しかしながらパタンの微細化が進むにつれてリソグラフィ技術単独ではその要求に応えることができなくなってきている．このため導入された考え方が全体最適化技術である．全体最適化技術とは，小さい範囲では複数の評価指標，大きくは複数の技術分野を同時に考慮することにより，微細化や歩留まり等の観点でより優れた技術を提供するものである．DFM（design for manufacturability）は，設計と製造という複数の技術分野を考慮する総合最適化技術の一つであると位置付けることが可能である．本発表ではリソグラフィ技術と微細化の進化について概観すると同時に，全体最適化技術についてこれまでの事例を交えながら議論を行う．さらには現在から将来におけるリソグラフィ技術の動向を鑑み，全体最適化技術がどのように対応していくべきかについて議論する．