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GaN ナノワイヤの有機金属気相成長法による形成と単一光子発生器への応用

机译:金属有机气相外延形成GaN纳米线及其在单光子发生器中的应用

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摘要

We analyzed several growth parameter dependences of the crystal morphology of GaN nanowires grown by spontaneous or selective-area catalyst-free metalorganic chemical vapor deposition in terms of thermodynamics and reaction engineering. It has been revealed that GaN nanowires are grown under low supersaturation, and that pattern fill factors should be properly taken into account in optimizing material supply rates to grow thin GaN nanowires in selective-area MOCVD. Toward the development of high-quality single photon sources, we fabricated prototype devices based on single GaN quantum dots embedded in GaN/AIN heterostructure nanowires. Optical properties of these devices were also characterized.%独自に開発したGaN ナノワイヤの無触媒有機金属気相成長法による作製技術(自己形成法および選択成長法)について、得られる結晶の形状に影響を与えるパラメータの熱力学的および反応工学的解析を行った。その結果、GaN ナノワイヤは低過飽和度において形成されること、微細な構造の選択成長ではパターンの開口率を考慮して材料供給量を最適化する必要があること、が明らかになった。一方、高品質な単一光子発生器への応用を目指して、GaN/AlN ヘテロ構造ナノワイヤにGaN 量子ドットを組み込んだ素子を作製し、その光学特性を評価した。
机译:我们从热力学和反应工程学角度分析了自发或无选择区无催化剂金属有机化学气相沉积法生长的GaN纳米线的晶体形态的几个生长参数依赖性。已揭示GaN纳米线在低过饱和度下生长,并且在优化材料供应速率以在选择性区域MOCVD中生长细GaN纳米线时,应适当考虑图案填充因子。为了开发高质量的单光子源,我们基于嵌入在GaN中的单个GaN量子点制造了原型器件。 AIN异质结构纳米线,还表征了这些器件的光学性能%自主开发的GaN纳米线对非催化金属有机气相外延(自形成法和选择性生长法)对所得晶体形状的影响热力学和反应工程的参数分析得出结果,澄清了GaN纳米线以低过饱和度形成,并且精细结构的选择性生长需要考虑图案开口率来优化材料供应。另一方面,为了将其应用于高质量的单光子发生器,我们制造了一种将GaN量子点结合到GaN / AlN异质结构纳米线中并评估其光学性能的器件。

著录项

  • 来源
    《電子情報通信学会技術研究報告》 |2011年第290期|p.121-126|共6页
  • 作者单位

    東京大学ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構 〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1;

    東京大学生産技術研究所 〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1;

    東京大学ナノ量子情報エレクトロニクス研究機構 〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1,東京大学生産技術研究所 〒153-8505 東京都目黒区駒場4-6-1;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

    GaN; ナノワイヤ; MOCVD; 単一光子発生器;

    机译:GaN;纳米线;MOCVD;单光子发生器;
  • 入库时间 2022-08-18 00:31:19

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