首页> 外文期刊>電子情報通信学会技術研究報告 >AlGaN量子井戸構造の内部量子効率
【24h】

AlGaN量子井戸構造の内部量子効率

机译:AlGaN量子阱结构的内部量子效率

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

We analyzed the IQE of whole-composition-range AlGaN multi-quantum wells (MQWs) on AlGaN with various dislocation densities by excitation density dependent PL measurement. IQE with an excess carrier density of 1 × 10~(18) cm~(-3) changes from 4 to 64% when the dislocation density changes from 6 × 10~9 to 2 × 10~8 cm~(-2). This trend is almost the same for DUV/UV MQWs with emission wavelength ranging from 230 to 350 nm.%様々な転位密度の下地層上にAIGaN多重量子井戸(MQWs)を作製し、励起強度変化PL法による内部量子効率(IQE)の評価を行った。発光ピーク波長230nm、250nm、300nmの活性層において比較を行ったところ、全てのMQWにおいて、IQEと貫通転位密度の関係は、波長に寄らずほぼ同じ依存性を示した。
机译:我们通过激发密度依赖的PL测量分析了具有不同位错密度的AlGaN上整个组成范围的AlGaN多量子阱(IQE)的IQE.IQE的载流子密度为1×10〜(18)cm〜(-3 )当位错密度从6×10〜9变为2×10〜8 cm〜(-2)时,从4%变为64%。对于发射波长为230至350的DUV / UV MQW,这种趋势几乎相同我们在具有不同nm。%位错密度的下层上制造了AlGaN多量子阱(MQW),并通过激发强度变化PL方法评估了内部量子效率(IQE)。比较具有230 nm,250 nm和300 nm发射峰值波长的有源层,IQE与穿线位错密度之间的关系在所有MQW中显示出几乎相同的依赖性。

著录项

  • 来源
    《電子情報通信学会技術研究報告》 |2011年第44期|p.127-130|共4页
  • 作者单位

    名城大・理工 〒468-8502 名古屋市天白区塩釜口1-501;

    名城大・理工 〒468-8502 名古屋市天白区塩釜口1-501;

    名城大・理工 〒468-8502 名古屋市天白区塩釜口1-501;

    名城大・理工 〒468-8502 名古屋市天白区塩釜口1-501;

    名城大・理工 〒468-8502 名古屋市天白区塩釜口1-501;

    名城大・理工 〒468-8502 名古屋市天白区塩釜口1-501;

    名城大・理工 〒468-8502 名古屋市天白区塩釜口1-501;

    名城大・理工 〒468-8502 名古屋市天白区塩釜口1-501,名古屋大・赤暗記念研究センター 〒464-8603名古屋市千種区不老町;

    名古屋大・院工 〒464-8603名古屋市千種区不老町,名古屋大・赤暗記念研究センター 〒464-8603名古屋市千種区不老町;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

    AlN; AlGaN内部量子効率;

    机译:AlN;AlGaN内部量子效率;
  • 入库时间 2022-08-18 00:30:28

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号