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Ka 帯20W 出力AlGaN/GaN HEMT の開発

机译:开发Ka波段20W输出AlGaN / GaN HEMT

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摘要

近年、通信用途としてKa帯 AlGaN/GaN デバイスの期待が高まってきている。今回われわれは動作周波数26GHz におけるAlGaN/GaNHEMT 高出力デバイスの開発をした。エビタキシヤル構造とゲート長について検討し、素子性能として最大発振周波数(fmax)138GHz を得た。また総ゲート幅6.4mm の電力素子に整合をとりVds=30V において出力20W を小信号利得6.7dB、電力付加効率18.5%を得た。%AlGaN/GaN High Electron Mobility Transistors(HEMTs) were developed for Ka-band. The developed device showed 138 GHz of fmax, which depended on the thickness of the AlGaN barrier layer and the gate length. It had a 6.4mm gate periphery on a metal carrier plate. The output power achieved 20W with impedance matching circuits.
机译:近年来,人们对用于通信应用的Ka波段AlGaN / GaN器件的期望有所提高。这次,我们开发了工作频率为26 GHz的AlGaN / GaN HEMT大功率器件。我们检查了外延结构的结构和栅极长度,并获得了138 GHz的最大振荡频率(fmax)作为器件性能。同样,通过匹配总栅极宽度为6.4 mm的功率器件,在Vds = 30 V时,获得20 W的输出,信号增益为6.7 dB,功率附加效率为18.5%。 %% AlGaN / GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)用于Ka波段,开发的器件显示138 GHz的fmax,这取决于AlGaN势垒层的厚度和栅极长度,其在6.4mm的栅极外围上一个金属载板,通过阻抗匹配电路可达到20W的输出功率。

著录项

  • 来源
    《電子情報通信学会技術研究報告》 |2011年第358期|p.61-64|共4页
  • 作者单位

    東芝社会システム社 小向工場 マイクロ波技術部 〒212-8583 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1;

    東芝社会システム社 小向工場 マイクロ波技術部 〒212-8583 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1;

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    東芝研究開発センター 電子デバイスラボラトリー 〒212-8583 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1;

    東芝研究開発センター 電子デバイスラボラトリー 〒212-8583 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

    AlGaN; GaN; HEMT; Ka 帯;

    机译:AlGaN;GaN;HEMT;Ka带;
  • 入库时间 2022-08-18 00:29:55

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