首页> 外文期刊>電子情報通信学会技術研究報告 >量子補正モンテカルロ法による歪みInSb HEMTの遅延時間解析
【24h】

量子補正モンテカルロ法による歪みInSb HEMTの遅延時間解析

机译:量子校正蒙特卡洛法分析应变InSb HEMT的延迟时间。

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

InSbの歪みバンド構造を計算し,量子補正モンテカルロ法を用いてInSb HEMTの特性を解析した.またInAs HEMTと比較した.チャネルに加わる圧縮歪みはInSbチャネルの電子の有効質量を増加させたが,InSb HEMTはInAs HEMTと比べて低いドレイン電圧V_(ds)から高い電流駆動能力と高いf_Tを示した.一方圧縮歪みは衝突電離スレツショルドエネルギーE_(th)を上昇させたが,低いV_(ds)から衝突電離が発生した.これによりInSb HEMTは電流駆動能力とf_Tが高いが,低いV_(ds)での使用に制限されることを示した.%The strained band structures of InSb are calculated, and then the intrinsic performances of the InSb HEMTs are analyzed by using the quantum-corrected MC simulation. These are also compared with the InAs HEMT. Although the compressive strain applied to the channel increases the electron effective mass, m~* the InSb HEMTs still show the higher current drivability and the higher intrinsic f_T than the InAs HEMT. However, the severe impact ionization occurs from the lower V_(ds) owing to the smaller impact ionization threshold energy,E_(th), even though it is increased by the compressive strain. This restricts the InSb HEMTs within the low V_(ds) applications.
机译:计算了InSb的应变带结构,使用量子校正的蒙特卡洛方法分析了InSb HEMT的特性,并与InAs HEMT进行了比较,尽管施加于沟道的压缩应变增加了InSb沟道的有效电子质量,与InAs HEMT相比,InSb HEMT具有更高的电流驱动能力和更低的漏极电压V_(ds)而具有更高的f_T,而压缩应变提高了碰撞电离阈值能量E_(th),但具有更低的V_(ds)。计算出InSb的应变带结构%,其表明InSb HEMT具有高的电流驱动能力和f_T,但是限于在低的V_(ds)下使用。然后通过量子校正的MC模拟分析了InSb HEMT的内在性能,并与InAs HEMT进行了比较,尽管施加在沟道上的压缩应变增加了电子有效质量,但m〜* InSb HEMT仍然存在。与InAs HEMT相比,具有更高的电流可驱动性和更高的固有f_T。然而,即使碰撞电离阈值能量E_(th)较小,由于较低的碰撞电离阈值能量E_(th),也会从较低的V_(ds)发生严重的碰撞电离。压缩应变,这将InSb HEMT限制在低V_(ds)应用范围内。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号