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机译:使用Sol-Gel(SG)抛光垫精确抛光单晶金刚石(111)基板
Huaqiao Univ Inst Mfg Engn Xiamen 361021 Fujian Peoples R China|Huaqiao Univ MOE Engn Res Ctr Brittle Mat Machining Xiamen 361021 Fujian Peoples R China;
Polishing; removal mechanism; single crystal diamond (SCD); sol-gel (SG) polishing pad;
机译:紫外光下单晶金刚石基底的超精密抛光研究
机译:微非球面精密抛光研究:单晶LiNbO {sub} 3光波导透镜的精密抛光
机译:微型非球面精密抛光的研究:单晶LINBO {SUB} 3光波导透镜的精密抛光
机译:紫外光下单晶金刚石基底的超精密抛光研究
机译:用于微立铣刀制造的单晶金刚石和陶瓷的基于心轴的抛光:超高速微加工主轴的抛光特性和误差运动分析。
机译:{100}和{111}单晶金刚石的二氧化硅基抛光
机译:通过使用抛光{100}和{111}单晶金刚石 化学机械抛光
机译:对于CaF sub 2的裸露抛光晶体和二氧化硅基板上的二氧化硅溶胶 - 凝胶aR涂层,使用350-Nm脉冲(25至100 Hz)测量阈值