single crystal diamond chemical mechanical polishing diamond polishing;
机译:{100}和{111}单晶金刚石的二氧化硅基抛光
机译:基于纳米二氧化硅和纳米镍粉的单晶金刚石(100)平面的抛光方法
机译:基于溶胶 - 凝胶抛光工具处理单晶金刚石(100)的表面损伤
机译:Si单晶体表面(100)和(111)的原子取代方法外延生长的机制和在单晶中生长的Si膜的表面上的表面(100)和(111)
机译:用于微立铣刀制造的单晶金刚石和陶瓷的基于心轴的抛光:超高速微加工主轴的抛光特性和误差运动分析。
机译:根据单晶X射线数据重新确定NaTcO4在100和296 K下的晶体结构
机译:{100}和{111}单晶金刚石的二氧化硅基抛光
机译:抛光熔融硅和金刚石转变为单晶211硅的次表面结构