机译:CMOSV 1.25微米技术的瞬态辐射硬度
机译:0.35微米CMOS技术的低功耗,快速单光子计数ASIC CLARO-CMOS的辐射硬度测试和表征
机译:用高达1.25 Grad的24 GeV质子辐照的高OH〜-含量的石英纤维的辐射硬度测量
机译:通过测量单事件瞬态脉冲宽度和单事件翻转率,对绝缘体和本体工艺上的65 nm完全耗尽硅进行辐射硬度评估
机译:CLARO-CMOS的辐射硬度,一种原型ASIC,可在0.35微米CMOS技术中实现低功耗和快速单光子计数
机译:采用0.18微米CMOS技术的耐辐射设计
机译:放射治疗剂量法metry掺杂磷掺杂氯化钾的荧光粉的辐射硬度
机译:CLaRO-CmOs:快速,低功耗和抗辐射的前端asIC,用于0.35微米CmOs技术的单光子计数