机译:3-D NAND闪存中的总电离剂量效应
Univ Padua, RREACT Grp, Dipartimento Ingn Informaz, I-35122 Padua, Italy;
Univ Padua, RREACT Grp, Dipartimento Ingn Informaz, I-35122 Padua, Italy|Ist Nazl Fis Nucl, I-35131 Padua, Italy;
Univ Padua, RREACT Grp, Dipartimento Ingn Informaz, I-35122 Padua, Italy|Ist Nazl Fis Nucl, I-35131 Padua, Italy;
Micron Technol Proc Res & Dev, I-20871 Vimercate, Italy;
ESA ESTEC, NL-2201 AZ Noordwijk, Netherlands;
ESA ESTEC, NL-2201 AZ Noordwijk, Netherlands;
ESA ESTEC, NL-2201 AZ Noordwijk, Netherlands;
ESA ESTEC, NL-2201 AZ Noordwijk, Netherlands;
3-D NAND; flash memories; floating gate (FG) devices; total dose effects; total ionizing dose (TID);
机译:总电离剂量对三星8Gb NAND闪存中单事件效应灵敏度的影响
机译:总电离剂量对41nm NAND闪存单元保留的影响
机译:闪存高压设备中的总电离剂量效应
机译:用于大剂量任务的商用三星NAND闪存的总电离剂量测量
机译:总电离剂量和剂量率对(正负)BJT带隙基准的影响
机译:通过电检测磁共振研究TiN / Ti / HfO2 / TiN电阻性随机存取存储器的总电离剂量效应
机译:25nm NAND闪存中总电离剂量响应的统计分析