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【24h】

Indium tin oxide transparent electrodes for broad-area top-emitting vertical-cavity lasers fabricated using a single lithography step

机译:使用单个光刻步骤制造的用于大面积顶部发射垂直腔激光器的铟锡氧化物透明电极

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摘要

We report for the first time top-emitting buried oxide vertical cavity lasers using transparent indium tin oxide electrodes. Our process enables broad-area InAlGaAs VCSELs to be fabricated in a single lithography step, thus allowing the fast turn-around time necessary for evaluating VCSEL epitaxial materials. The ITO contacts attain a peak transmission of 96%, a specific contact resistance of 10/sup -5/ /spl Omega//spl middot/cm/sup 2/, and a sheet resistivity of 2.5/spl times/10/sup -4/ /spl Omega//spl middot/cm. Under room temperature CW pumping, the devices exhibit a minimum threshold current density of 1.2 kA/cm/sup 2/ at a wavelength of 801 mm, and have a maximum light output power of 5.2 mW.
机译:我们首次报道了使用透明铟锡氧化物电极的顶部发射掩埋氧化物垂直腔激光器。我们的工艺能够在单个光刻步骤中制造大面积的InAlGaAs VCSEL,因此可以提供评估VCSEL外延材料所需的快速周转时间。 ITO触点的峰值透射率为96%,比接触电阻为10 / sup -5 / / splΩ// spl middot / cm / sup 2 /,薄层电阻率为2.5 / spl乘以10 / sup- 4 / / spl欧米茄// spl middot / cm。在室温连续波泵浦下,这些器件在801 mm波长下的最小阈值电流密度为1.2 kA / cm / sup 2 /,最大光输出功率为5.2 mW。

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