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机译:具有表面纹理化的铟锡氧化物透明欧姆接触的InGaN-GaN发光二极管的改进
Opto-Electron. & Syst. Labs., Ind. Technol. Res. Inst., Hsinchu, Taiwan;
light emitting diodes; surface texture; indium compounds; indium compounds; tin compounds; gallium compounds; III-V semiconductors; wide band gap semiconductors; ohmic contacts; sputter etching; photolithography; transparency; InGaN-GaN light-emittin;
机译:使用表面纹理化的铟锡氧化物透明欧姆接触增强GaN基发光二极管的光输出
机译:全息光子晶体对表面处理铝掺杂ZnO透明欧姆接触的GaN发光二极管的改进
机译:具有基于铟锡氧化物的透明欧姆接触的GaN基发光二极管的性能改进
机译:使用表面纹理化的铟锡氧化物透明欧姆接触改善GaN基发光二极管
机译:氮化镓透明铟锡氧化物欧姆接触的发展
机译:氧化铟锡和发光层厚度对钙钛矿发光二极管光输出耦合的影响
机译:全息光子晶体对表面处理铝掺杂ZnO透明欧姆接触的GaN发光二极管的改进
机译:碳纳米管肖特基二极管,采用Ti-schottky和pt欧姆触点,适用于高频应用