机译:用于EUV和X射线衍射光学的专业电子束纳米光刻
Lawrence Berkeley National Laboratory, Center for X-Ray Optics, Material Sciences Division, Berkeley, CA 94720 USA;
Diffractive optics; electron beam lithography; Fresnel zone plate; X-ray;
机译:多次发射激光束损坏的FEL多层光学器件的EUV软X射线表征
机译:产酸效率对化学放大电子束,X射线和EUV抗蚀剂中羟基保护率的依赖性
机译:化学放大电子束,X射线和EUV抗蚀剂工艺的建模和仿真
机译:EUV微光刻衍射有限软X射线光学衍射有限软X射线光学的制造和计量
机译:使用X射线衍射,俄歇电子能谱和磁光Kerr效应来生产,分析和表征非晶磁性材料。
机译:光束对衍射硬X射线光学器件的损伤
机译:纳米调制电子束通过电子衍射和发射 交换相干x射线
机译:通过具有50nm线宽的X射线掩模的三电平电子束光刻制造,以及通过X射线纳米光刻复制