机译:通过向TiSi / sub 2 /中掺杂注入来制造PMOS晶体管
机译:制造温度对纳米pMOS晶体管的热应力和速度性能影响的建模和分析
机译:沟道注入的SiC NMOS和PMOS晶体管中栅极氧化物的电稳定性影响
机译:通过注入硅化物形成亚微米PMOS晶体管
机译:PMOS晶体管注入期间晶片温度效应的研究
机译:使用等离子体浸没离子注入和外延二硅化钴作为掺杂源的超浅结制造。
机译:基于再生和注入方法的N沟道GaN金属氧化物半导体场效应晶体管的制作和评估
机译:65nm CMOS技术PMOS晶体管的芯片到芯片和芯片内制造变化
机译:用于双极晶体管制造的高能离子注入