机译:等离子蚀刻中的表面科学问题
机译:等离子体电解的特刊:电解等离子体表面处理和涂层的科学,技术和应用进展前言
机译:等离子体暴露表面的表面科学:应用等离子体科学的挑战
机译:输入功率和气压对反应等离子体中SiO_2 / Si表面的粗糙化和选择性刻蚀的影响
机译:使用量身定制的电压波形等离子体的纳米纹理硅表面:离子轰击能量对蚀刻动力学和钝化的影响
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:纳米等离子蚀刻收缩纳米包裹的超疏水表面
机译:输入功率和气压对反应等离子体中SiO2 / Si表面的粗糙化和选择性刻蚀的影响
机译:惰性气体添加剂种类对Cl(2)化合物半导体高密度等离子体刻蚀的影响:第1部分:Gaas和Gasb;应用表面科学