机译:输入功率和气压对反应等离子体中SiO_2 / Si表面的粗糙化和选择性刻蚀的影响
机译:用碳氟化合物等离子束刻蚀低k膜的表面粗糙度的研究
机译:反应性等离子体中含SiC和Ga的半导体的表面粗糙化
机译:利用响应面法对CH
机译:纳米级处理中的等离子体表面相互作用:通过硅选择性保留低k完整性和高k栅堆叠蚀刻。
机译:压力溃疡猫。 II-IV在Curocell S.A.M的发病率。 Pro供电的反应空气支撑表面在高风险的人群中:12位比利时护理家庭中的多长期队列研究
机译:箱式室内NF3气等离子体的NF3气体压力和SiC对SiC表面反应离子蚀刻的影响