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New simulation methodology for effects of radiation in semiconductor chip structures

机译:半导体芯片结构中辐射效应的新仿真方法

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摘要

New and effective modeling methodologies have been developed to simulate particle transport in arbitrarily complex back-end-of-line (BEOL) topologies of a semiconductor chip. They are applied to address a number of critical problems that involve the singl
机译:已经开发出新的有效建模方法来模拟半导体芯片任意复杂的后端(BEOL)拓扑中的粒子传输。它们用于解决涉及单个问题的许多关键问题。

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