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エルピーダメモリ、65nmシュリンク版開発~20%コスト削減: 50nmプロセスも11月中に開発完了し12月量産開始も視野

机译:ELPIDA内存,65 nm Schlink版本开发-20%降低成本:50纳米工艺在11月期间也完成,12月份生产开始

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摘要

エルピーダメモリは、従来の65nmプロセス品に比べ、300mmウェハ1枚あたりのチップ 取得数が約20%向上した1GビットDDR2 SDRAMシュリンク版(チップ縮小版)を 開発、年内に同社広島工場、台湾の合弁会社「レックスチップ」および生産パートナー「P SC」で量産を開始する。
机译:ELPIDA内存开发了1个G位DDR2 SDRAM SCLINK版本(芯片发光),与传统的65纳米工艺产品相比,多个300毫米晶片的增加约20%,而公司的广岛植物,台湾在今年内的合资企业,我们开始质量生产公司“雷克斯芯片”和生产合作伙伴“P SC”。

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  • 来源
    《High-Tech news》 |2008年第1104期|p.17|共1页
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  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 工业技术;
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