机译:UWAVS首创使用30-60 MHz RF放电的镜面等离子体清洁技术
TNO, POB 155, NL-2600 AD Delft, Netherlands;
TNO, POB 155, NL-2600 AD Delft, Netherlands;
TNO, POB 155, NL-2600 AD Delft, Netherlands;
TNO, POB 155, NL-2600 AD Delft, Netherlands;
Gen Atom, POB 85608, San Diego, CA 92186 USA;
Princeton Plasma Phys Lab, POB 451, Princeton, NJ 08543 USA;
Princeton Plasma Phys Lab, POB 451, Princeton, NJ 08543 USA;
TNO, POB 155, NL-2600 AD Delft, Netherlands;
TNO, POB 155, NL-2600 AD Delft, Netherlands;
Gen Atom, POB 85608, San Diego, CA 92186 USA;
Lawrence Livermore Natl Lab, POB 808, Livermore, CA 94551 USA;
Princeton Plasma Phys Lab, POB 451, Princeton, NJ 08543 USA;
TNO, POB 155, NL-2600 AD Delft, Netherlands;
TNO, POB 155, NL-2600 AD Delft, Netherlands;
First mirror; Plasma cleaning; Radio-frequency discharges; Ion sputtering;
机译:UWAVS经过长时间等离子清洗后的第一面镜子:表面特性和材料再沉积问题
机译:去除氦和氖射频等离子体中的W污染物,以保持ITER UWAVS第一面镜的光学性能
机译:RF放电镜像清洁镜头光学诊断使用60 MHz非常高频
机译:反射镜表面的RF等离子清洁:等离子清洁的特性,优化和表面物理方面
机译:在放电产生的EUV等离子体源中通过反应离子蚀刻清洁锡屑。
机译:低温(13.56 MHz)等离子体放电沉积的SiGe:H合金中使用H稀释终止Si和Ge原子的研究
机译:长等离子体清洁后的UWAVS第一镜:表面性质和材料重新沉积问题
机译:电弧放电屏蔽镜面FERF等离子体