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机译:氢气对近大气氮等离子体辅助GaN膜生长的化学气相沉积的影响
Advanced Electronic Materials Center, National Institute for Materials Science, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan;
Advanced Electronic Materials Center, National Institute for Materials Science, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan;
Advanced Electronic Materials Center, National Institute for Materials Science, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan;
Advanced Electronic Materials Center, National Institute for Materials Science, Tsukuba, Ibaraki 305-0044, Japan;
Sekisui Chemical Co., Ltd., Wadai, Tsukuba, Ibaraki 300-4292, Japan;
Sekisui Chemical Co., Ltd., Wadai, Tsukuba, Ibaraki 300-4292, Japan;
机译:近大气等离子体辅助化学气相沉积法制备GaN薄膜
机译:等离子体辅助分子束外延在金属有机化学气相沉积-GaN / c-蓝宝石衬底上生长的GaN薄膜中的应力和缺陷的衰减
机译:用双等离子体源化学辅助溅射在GaN膜生长中的原子氮/氢的作用
机译:通过改进的等离子体辅助化学气相沉积技术沉积高度氢化的碳膜
机译:氮对微波等离子体辅助化学气相沉积金刚石薄膜生长的影响
机译:原子氮/氢的作用在GaN薄膜生长中通过用双重等离子体来源化学辅助溅射
机译:等离子体辅助金属有机化学气相沉积法在Si(111)衬底上生长AlxGa1-xN / GaN异质结构薄膜的微观结构和光学性质
机译:通过微波等离子体辅助化学气相沉积在高温下高生长率同质外延金刚石膜沉积