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アイテスが断面からのエミッション発光解析とTEMによるLEDのリーク解析の手法を開発

机译:Aites通过TEM进行横截面分析和LED泄漏分析方法的开发

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摘要

LEDチップにはいろいろなrnタイプの構造があるが,LSIとrn違い発光層の上層に数十μm厚rnの電流拡散層が形成されているrnものも多い。そういったLEDrnのリーク解析では,リーク箇所rnがチップの深いところにあるたrnめFIBによる試料加工が困難でrnあり,TEMを用いたピンポイrnントでの物理的観察が困難であrnった。今回,断面からの発光解rn析によりFIBによるアプローチrnを可能にし,TEM観察によっrnてリーク不良の詳細な原因を明rnらかにする手法を開発した。
机译:用于LED芯片的各种rn型结构,但是与rn不同,存在许多rn型结构,其中在发光层上方形成厚度为几十μm的电流扩展层。在这种LEDrn的泄漏分析中,由于泄漏点rn在芯片中很深,因此难以通过FIB处理样品,并且难以通过精确的TEM进行物理观察。这次,我们开发了一种方法,该方法可通过横截面的辐射解离分析实现FIB的方法,并通过TEM观察阐明泄漏失败的详细原因。

著录项

  • 来源
    《電子材料》 |2009年第7期|60-62|共3页
  • 作者

    高木啓太郎;

  • 作者单位

    アイテス;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类
  • 关键词

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