机译:In x sub> Ga 1-x sub> As FinFET中铟(x)浓度和量子浓度的变化对PBTI可靠性的影响
Department of Electrical Engineering, Pennsylvania State University, State College, PA, USA;
Aluminum oxide; FinFETs; Logic gates; Quantization (signal); Reliability; Stress; Threshold voltage; III-V FinFET; Positive Bias Temperature Instability (PBTI); Quantum Well; Time to Failure (TTF); positive bias temperature instability (PBTI); quantum well; time to failure (TTF);
机译:温度和铟浓度依赖性介电常数和电子亲和力对球形GaSb-Ga_(1-x)In_xAs_ySb _(1-y)GaSb量子点中的激子光学跃迁和结合能的影响
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机译:In(x)浓度和量子约束变化的In
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