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机译:基质材料对ALD生长铱薄膜成核和性质的影响
iridiumthin filmatomic layer depositionnucleationoptical propertieselectrical properties;
机译:原子层沉积生长的铱和氧化铱薄膜的形核和共形
机译:通过物理气相沉积法生长的四硫富瓦烯-四氰基喹二甲烷薄膜:基底结构和基底材料的影响
机译:沉积温度对在硅基板上生长的SnS薄膜性能的影响-与在玻璃基板上生长的膜的结构和光学性质的比较研究
机译:不同底物材料生长碳纳米管薄膜的场排放性能
机译:聚合物薄膜:基材的性质是否会影响材料的性质?
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:基底材料对ALD生长的铱薄膜成核和性能的影响
机译:衬底温度和氢稀释比对热线化学气相沉积法生长纳米硅薄膜性能的影响