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机译:钒含量对反应性直流磁控共溅射制备TiVN薄膜结构和化学状态的影响
机译:钛溅射电流对反应性直流磁控共溅射制备的TiZrN薄膜结构和形貌的影响
机译:铬含量对反应磁控型共溅射工艺产生钒氮化钒薄膜微观结构和电化学超特性的影响
机译:活性直流磁控共溅射制备ZrTiO4薄膜的介电性能
机译:反应性DC磁控掺杂沉积的Tivn薄膜的结构和组成
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:银掺杂对射频磁控共溅射系统制备ZnO薄膜的影响
机译:钒含量对反应性直流磁控共溅射制备TiVN薄膜结构和化学状态的影响