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机译:组成,界面和沉积顺序对Ta
Ta2O5Nanolayered filmsElectrical propertyAtomic layer depositionPost-annealing;
机译:组成,界面和沉积顺序对Ta
机译:原子层沉积生长La
机译:La
机译:使用“智能”压电襟翼执行器的正常冲击波/湍流边界层相互作用控制改善了结果。术语E杨氏模量M马赫数t厚度下标n正常s的基材性质缩写
机译:半磁性半导体合金Cd [下标x] Zn [下标y] Mn [下标z] Se的一些性质(x + y + z = 1)
机译:组成界面和沉积顺序对原子层沉积在硅上生长的纳米Ta2O5-Al2O3薄膜电学性能的影响
机译:(La [下标1-y] sr [下标y])[下标2] CoO [下标4±δ] / La [下标1-x] sr [下标x] CoO [下标3-]中的异常界面和表面锶偏析δ]异质结构薄膜