机译:在65 nm工艺技术的不同工艺角处分析8T SRAM单元
机译:在65 nm工艺技术的不同工艺角处分析8T SRAM单元
机译:在45 nm下对6T,8T和10T SRAM电池的数据保持电压(DRV)的处理角分析
机译:在45nm处的6T,8T和10T SRAM CEIL的数据保留电压(DRV)的过程角落分析
机译:用于图像处理器的低能耗8T双端口SRAM,采用28nm FD-SOI工艺技术中的选择性源极驱动方案
机译:在16NM技术中使用FinFET和CMOS的8T SRAM单元的设计与性能评估
机译:在美国国立卫生与医疗保健研究院(National Institute of Health and Care Excellence)单一技术评估过程中使用探索性分析:评估和定性分析。
机译:在65 nm工艺技术的不同工艺角处分析8T SRAM单元