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机译:双阴极辉光放电研究溅射沉积纳米Cr3Si薄膜的行为
Nanjing University of Aeronautics and Astronautics, Department of Material Science and Engineering, 29 Yudao Street, Nanjing 210016, PR China.;
Nanocrystalline Cr3Si, sputter-deposited, high temperature oxidation, wear resistance;
机译:双阴极辉光放电研究溅射沉积纳米Cr_3Si薄膜的行为
机译:双阴极辉光等离子体研究溅射沉积纳米晶(Mo_xCr_(1-x))_ 5Si_3膜的腐蚀行为
机译:Al在双阴极辉光放电技术制备的Mo(Si_(1-x)Al_x)_2纳米晶涂层的磨损控制中的作用
机译:通过双阴极辉光放电改善CR3SI膜对CR3SI薄膜的空化蚀阻
机译:辉光放电对激光汽化沉积薄膜的影响以及辉光放电中铜-氧反应的活化能测量。
机译:通过辉光放电光谱研究掺杂元素来表征非晶硅薄膜。电导率和带隙能量测量的相关性
机译:通过双阴极辉光放电技术制备的纳米晶体MO(Si1-XALX)2涂层耐磨控制的作用
机译:沉积溅射纳米晶氧化锆薄膜的生长动力学模型