机译:常压化学气相沉积法在光催化水氧化中合成二氧化钛薄膜最佳厚度的研究
Christopher Ingold Laboratory, University College London, 20 Gordon Street, London, WC1H 0AJ (UK);
Department of Pure and Applied Chemistry, University of Strathclyde, Thomas Graham Building, 295 Cathedral Street, Glasgow, G1 1XL (UK), Fax: (+44)
207679 7463;
photocatalysis; thin films; titanium; water splitting;
机译:大气压化学气相沉积法合成光催化水氧化二氧化钛薄膜最佳厚度的研究
机译:大气压化学气相沉积由乙酰丙酮氧钒和六氯化钨制备的掺杂和未掺杂的二氧化钒薄膜:厚度和晶体取向对热致变色性能的影响
机译:大气压化学气相沉积硼掺杂二氧化钛用于光催化水还原和氧化
机译:光诱导化学气相沉积选择性区域沉积二氧化钛薄膜
机译:火焰辅助化学气相沉积制备铝载二氧化钛薄膜的光催化性能评估
机译:洞察等离子体在二氧化钛薄膜的大气压化学气相沉积中的作用
机译:大气压化学气相沉积硼掺杂二氧化钛用于光催化水还原和氧化
机译:数字传感器原理研究。第10卷 - 化学气相沉积的薄膜二氧化钛,1968年7月1日至12月31日