Effect of film thickness on the physical properties of ZnO:Al thin films deposited using a spray pyrolysis technique

摘要

ZnO:Al(ZAO) films with various amount of solution, in the range 10-120 mL, were prepared on a glass substrate. Deposition was carried out using a spray method, and the substrate temperature was held at 500 °C. It was found that increasing the amount of solution causes the ZnO:Al thin films to exhibit a strong orientation along (002). The variation in the structural properties due to variation in the volume of solution was investigated by means of X-ray diffraction. The lowest sheet resistance obtained was 40 Ω/cm2 for a 120 mL solution. PACS Nos.: 73.61.-r, 78.20.-ennNous avons préparé des films de ZnO:Al(ZAO) sur un substrat de verre, avec différentes quantités de solution allant de 10 à 120 mL. Les dépôts ont été faits par pulvérisation et la température du substrat a été maintenue à 500 °C. Nous avons observé que l'augmentation de la solution pulvérisée génère une forte orientation des films minces selon (002). La variation de structure des films a été étudiée en utilisant la diffraction-X (XRD). La plus petite résistance mesurée dans les films a été 40 Ω/cm2 pour 120 mL de solution. [Traduit par la Rédaction]