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Integrated circuits in silicon carbide for high-temperature applications

机译:高温应用中碳化硅集成电路

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摘要

High-temperature electronic applications are presently limited to a maximum operational temperature of 225 degrees C for commercial integrated circuits (ICs) using silicon. One promise of silicon carbide (SiC) is high-temperature operation, although most commercial efforts have targeted high-voltage discrete devices. Depending on the technology choice, several processing challenges are involved in making ICs using SiC. Bipolar, metal oxide semiconductor field-effect transistors, and junction field-effect transistor technologies have been demonstrated in operating temperatures of up to 600 degrees C. Current technology performance and processing challenges relating to making ICs in SiC are reviewed in this article.
机译:目前,对于使用硅的商业集成电路(IC),高温电子应用限于最高工作温度225摄氏度。碳化硅(SiC)的一种前景是高温操作,尽管大多数商业努力都针对高压分立器件。根据技术选择的不同,使用SiC制造IC涉及一些处理挑战。已经在高达600摄氏度的工作温度下证明了双极型,金属氧化物半导体场效应晶体管和结型场效应晶体管技术。本文对与在SiC中制造IC相关的当前技术性能和工艺挑战进行了综述。

著录项

  • 来源
    《MRS bulletin》 |2015年第5期|431-438|共8页
  • 作者

    Zetterling Carl-Mikael;

  • 作者单位

    KTH Royal Inst Technol, Stockholm, Sweden;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

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