机译:通过低能离子溅射和低温退火制备原子清洁且平坦的Si(1 0 0)表面
Department of Electrical and Computer Engineering, University of Illinois, Urbana, IL 61801, USA;
silicon; ion sputtering; surface morphology; scanning tunneling microscopy; annealing; surface contamination;
机译:用去离子水浸出和热退火程序制备原子平坦的SrTiO_3表面
机译:通过氢清洗和高温退火改进的用于原子层沉积的InGaAs表面制备
机译:在低能低压微波等离子体中形成原子清洁的硅表面
机译:MEMS器件低温氢退火清洗金互连表面。
机译:1/3 ML锡/锗(111)和1/3 ML铅/锗(111)表面的低温相变的原子尺度结构研究。
机译:短距离表面等离子体激元:原子平坦的单晶金表面上60 nm点处的局部电子发射动力学
机译:通过低能量制备原子清洁和平坦的si(100)表面 离子溅射和低温退火
机译:用于受控聚变研究的原子数据,对章节的修订和添加D.1溅射,D.5来自表面的离子反射和D.6陷阱