机译:原位激光干涉法测量多层样品的溅射深度尺度:Si / SiGe层中的砷扩散
IBM Microelectronics, 2070 Rt 52, Hopewell Junction, NY 12533, USA;
depth profile; depth scale calibration; arsenic in SiGe;
机译:In0.53Ga0.47As / InP多层样品的深度轮廓分析,采用掠入射溅射中性质谱和激光后电离
机译:时间分辨拉曼光谱法用于多层矿物样品的深度分析
机译:利用X射线散射对富Ge的Si / SiGe多层膜中的Si和Ge互扩散进行原位研究
机译:使用原位样品制备方法显着提高多晶薄膜俄歇溅射深度剖析中的深度分辨率
机译:使用扫描激光系统灵活地制造三维多层微结构
机译:混合烧结法制备Ti-铝化物多层复合材料断裂行为的原位观察
机译:光通道检测磁共振系统的开发和多层顺磁性样品的深度分析。