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机译:偏置磁控射频溅射铟锡氧化物薄膜在异质结太阳能电池中的应用
Shanghai Jiao Tong Univ, Dept Phys, Solar Energy Inst, Shanghai 200240, Peoples R China;
rf sputtering; Indium tin oxide; negative bias; ion bombardment; heterojunction solar cell; textured surface; ELECTRICAL-PROPERTIES; IN2O3-SN FILMS; DEPOSITION; CRYSTALLIZATION; OPTIMIZATION; TEMPERATURE; SUBSTRATE;
机译:通过直流磁控溅射获得的铟锡氧化物薄膜,用于改进的硅异质结太阳能电池应用
机译:用于a-Si:H / c-Si异质结太阳能电池的具有高透射率和功函的RF磁控溅射铟锡氧化物薄膜
机译:用于a-Si:H / c-Si异质结太阳能电池的非晶硅/晶体硅的高透明RF磁控溅射铟锡氧化物薄膜
机译:磁控溅射沉积过程中氧气流对硅异质结太阳能电池铟锡氧化物薄膜的影响
机译:RF溅射法制备Si / Ingan异质结太阳能电池:改进氮化铟镓(IngaN)薄膜的电气和光学性能
机译:氧浓度对超薄射频磁控溅射沉积铟锡氧化物薄膜作为光伏器件上电极的性能的影响
机译:脉冲直流磁控溅射沉积异质结硅晶片太阳能电池用氧化铟锡薄膜的表征与优化