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机译:氧化对光学应用中多孔硅层物理性能的影响
Univ Rennes 1, CNRS, UMR 6082, FOTON,Lab Optron,ENSSAT Technopole Anticipa, F-22305 Lannion, France;
CNRS, Inst Elect Microemectr & Nanotechnol, UMR 8520, F-59652 Villeneuve Dascq, France;
Inst Mat Jean Rouxel, Lab Phys Crystalline, F-44322 Nantes, France;
nanostructured silicon; physical and optical characterisations; oxidation effects; GUIDES;
机译:氧化对光学应用中多孔硅层物理性能的影响
机译:类金刚石碳/多孔硅抗反射涂层在多晶硅太阳能电池中的光学性能研究
机译:用于光学应用的多孔硅纳米结构单层和梯度多孔层的光学性能分析
机译:光电应用多孔硅层的光学性能调制
机译:化学计量和氢含量对硅和二氧化硅上氮化硅和氧氮化物层的物理和电学性质的影响的研究
机译:原子层沉积制备的用于生物光子学的多孔硅-氧化锌纳米复合材料
机译:用于光伏应用的电化学电化学多孔硅层的光学研究
机译:氘对自立式多孔硅层光学性质的影响。