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机译:铯/氙气双束深度剖析:溅射原子的速度和电离几率
Univ Namur, FUNDP, LISE Lab, B-5000 Namur, Belgium;
ionization; caesiurn; MCs; ToF-SIMS; Rh; Si; depth profile; ION MASS-SPECTROMETRY;
机译:低能量双光束深度分析:使用TOF-SIMS进行溅射和分析光束参数对轮廓性能的影响
机译:聚合物材料的双束深度剖析:用于溅射的C _(60)和Ar簇离子束的比较(会议论文)
机译:有机材料的双束深度剖析:分析和溅射束条件的变化
机译:Cu掺杂Basi_2薄膜在Si(111)衬底上的分子束外延,Cu原子的深度谱的评价和鉴定为形成有效的太阳能电池
机译:皮特瓦至亿瓦每平方厘米激光场的氩,k和氙原子的电离测量。
机译:使用碳簇束的分子溅射深度分析
机译:使用溅射原子的共振电离同时分析自然存在的基质中难熔金属的双元素
机译:离子束溅射和深度剖析:关于诱导粗糙度的特征及其最佳固化方法