机译:亚皮秒级和纳秒级熔融石英湿法刻蚀的比较研究
Univ Szeged, Dept Opt & Quantum Elect, H-6720 Szeged, Hungary;
Hungarian Acad Sci, Res Grp Laser Phys, H-6720 Szeged, Hungary;
wet etching; fused silica; transparent materials; subpicosecond krF laser system; UV-TRANSPARENT MATERIALS; LASER-ABLATION; EXCIMER-LASER; FABRICATION; ABSORPTION; LIQUIDS; QUARTZ;
机译:金属激光诱导的背面湿法蚀刻技术对熔融石英纤维的蚀刻
机译:使用脱水AZ4330和Cr / Au掩模对硼硅酸盐玻璃和熔融石英进行深湿蚀刻
机译:通过湿化学蚀刻去除熔融二氧化硅基材上的Mo / Si多层涂层
机译:纳秒激光诱导的铜基吸收液对熔融石英的背面湿法蚀刻
机译:使用准分子激光(248 nm)对硼硅酸盐玻璃进行微加工,并通过激光诱导对石英进行背面湿蚀刻。
机译:纳米石英激光在熔融石英光栅上的多波长生长
机译:蚀刻剂对熔湿蚀刻蚀刻速率和质量对熔湿二氧化硅的蚀刻速率和质量影响的比较研究