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A Comparative Study on the Influence of Etchant upon the Etching Rate and Quality in Laser Induced Wet Etching of Fused Silica

机译：蚀刻剂对熔湿蚀刻蚀刻速率和质量对熔湿二氧化硅的蚀刻速率和质量影响的比较研究

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年度 2004
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1. Etching of fused silica fiber by metallic laser-induced backside wet etching technique [J] . Cs. Vass, B. Kiss, J. Kopniczky, Applied Surface Science . 2013,第auga1期

机译：金属激光诱导的背面湿法蚀刻技术对熔融石英纤维的蚀刻
2. Surface Plasmon Scattering On Polymer-bimetal Layer Covered Fused Silica Gratings Generated By Laser Induced Backside Wet Etching [J] . H. Tohati, A. Sipos, G. Szekeres, Applied Surface Science . 2009,第10期

机译：激光诱导的背面湿法刻蚀在聚合物-双金属层覆盖的熔融石英光栅上的表面等离子散射
3. Microstructuring of fused silica by laser-induced backside wet etching using picosecond laser pulses [J] . M. Ehrhardt, G. Raciukaitis, P.Gecys, Applied Surface Science . 2010,第23期

机译：使用皮秒激光脉冲通过激光诱导的背面湿法蚀刻对熔融石英进行微结构化
4. Study on Ablation Threshold of Fused Silica Glass by Femtosecond Laser Induced Backside Wet Etching [C] . Jinlong Yu, Xiaoyan Sun, Youwang Hu, International Conference on Information Optics and Photonics . 2018

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5. Micromachining of borosilicate glass and laser induced backside wet etching of quartz using an excimer laser (248 nm). [D] . Kanbargi, Ganesh P. 2005

机译：使用准分子激光（248 nm）对硼硅酸盐玻璃进行微加工，并通过激光诱导对石英进行背面湿蚀刻。
6. Ultraviolet Laser Damage Dependence on Contamination Concentration in Fused Silica Optics during Reactive Ion Etching Process [O] . Laixi Sun, Ting Shao, Zhaohua Shi, 2018

机译：反应离子刻蚀过程中紫外激光损伤对熔融石英光学器件中污染物浓度的影响
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机译：HF / HNO $ _3 $和KOH溶液中的深湿蚀刻对351 nm熔融石英光学元件的抗激光损伤性和表面质量的影响

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