机译:激光烧蚀在不同衬底上生长的Fe_3O_4薄膜的磁性
University of Lisbon, Department of Physics and ICEMS, 1749-016 Lisboa, Portugal;
Fe_3O_4 thin films; gallium arsenide; sapphire and silicon substrates; PLD; CEMS; magnetic characterisation;
机译:Fe_3O_4薄膜在573 K下使用脉冲激光沉积法生长在SiO_2(250 nm)/ Si和c-Al_2O_3(0001)衬底上的热电性能
机译:脉冲激光沉积在不同衬底上的Fe_3O_4薄膜的结构,磁性和输运性质
机译:脉冲激光沉积Fe_3O_4薄膜的基底相关结构和磁性
机译:脉冲激光烧蚀和溅射生长磁铁矿(Fe_3O_4)薄膜的比较研究
机译:激光烧蚀生长镧掺杂钛酸锶锶薄膜的传输性质和超导性。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:激光烧蚀在硅衬底上生长的铁磁金红石型共掺杂TiO_2薄膜中的Co分布