机译:离子束溅射沉积制备β-FeSi_2薄膜的X射线光电子和X射线吸收光谱研究
Japan Atomic Energy Agency, Tokai, Ibaraki 319-1195, Japan;
rnJapan Atomic Energy Agency, Tokai, Ibaraki 319-1195, Japan;
rnNational Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Tsukuba, Ibaraki 305-8565, Japan;
rnUniversity of Tsukuba, Tsukuba, Ibaraki 305-8577, Japan;
rnThe Wakasa Wan Energy Research Center, Tsuruga, Fukui 914-0192, Japan;
rnJapan Atomic Energy Agency, Tokai, Ibaraki 319-1195, Japan;
rnJapan Atomic Energy Agency, Tokai, Ibaraki 319-1195, Japan;
rnJapan Atomic Energy Agency, Tokai, Ibaraki 319-1195, Japan;
rnJapan Atomic Energy Agency, Tokai, Ibaraki 319-1195, Japan;
XPS; XAS; iron silicide; surface;
机译:反应溅射沉积的氮化锡薄膜的结构:结合X射线光电子能谱,原位X射线反射率和X射线吸收光谱研究
机译:结合深度X射线光电子能谱和飞行时间二次离子质谱研究沉积压力和衬底偏压对磁控溅射生长的Ga掺杂ZnO薄膜的电性能和组成的影响
机译:X射线光电子能谱研究离子束溅射在N + / N-2(+)离子反应辅助下生长的AlN薄膜:基底温度引起的成分变化
机译:溅射二氧化铈薄膜的沉积和X射线光电子能谱研究
机译:通过铝的物理气相沉积和等离子体增强的三甲基硅烷化学气相沉积产生的薄膜的原位X射线光电子能谱分析。
机译:电致变色V2O5纳米薄膜的电化学沉积和着色机理:原位X射线光谱研究
机译:在组合材料合成的计算机控制下,在机场梁溅射沉积和X射线光电子谱(XPS)下的多层薄层