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机译:激光同时蚀刻硅和沉积碳材料
Department of Physics, COMSATS Institute of Information Technology, Defence Road, Off Raiwind Road, Lahore, Pakistan;
Institut fuer Angewandte Physikjohannes-Kepler-Universitdt Linz, A-4040, Linz, Austria;
laser; etching; deposition; photolysis; carbon;
机译:同时碱性蚀刻设计的多孔硅碳复合材料用于高容量锂存储阳极
机译:通过脉冲激光沉积制备的掺硅的类金刚石碳膜的原子氢蚀刻
机译:Cl_2 / O_2 / Ar电感耦合等离子体刻蚀硅的同时刻蚀和沉积工艺
机译:同时在硅上进行多层等离子体蚀刻和碳氟化合物层沉积
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:通过组合激光诱导的背面湿法蚀刻和激光诱导的化学液相沉积方法将耐用的微铜图案沉积到玻璃中
机译:使用金属诱导蚀刻(mIE)制备的多孔硅的比较 和激光诱导蚀刻(LIE)
机译:激光 - 等离子体相互作用沉积和蚀刻半导体材料