机译:射频磁控溅射制备非晶Nb_2O_5薄膜的光学和结构性质
Hacettepe University, Department of Physics Engineering, Thin Film Preparation and Characterization Laboratory, Ankara, Turkey;
Hacettepe University, Department of Physics Engineering, Thin Film Preparation and Characterization Laboratory, Ankara, Turkey ,Hacettepe University, Nanotechnology and Nanomedicine Division, Ankara, Turkey;
Nb_2O_5 thin film; RF magnetron sputtering; Optical properties; Refractive index; Surface roughness;
机译:通过射频磁控溅射技术制备的Nb_2O_5:MoO_3(95:5、90:10和85:15)薄膜的结构,光学和电致变色性能
机译:射频功率对射频磁控溅射非晶InGaZnO薄膜结构,光学和电学性质的影响
机译:射频功率和溅射压力对射频磁控溅射制备的TiO_2薄膜的结构和光学性能的影响
机译:生长条件对反应磁控溅射非晶态氧化铬薄膜表面能,光学性能和耐盐腐蚀性的影响
机译:射频磁控溅射未掺杂镧锰矿薄膜的结构,磁性和表面特性。
机译:射频磁控溅射制备(MgAl)共掺杂ZnO薄膜的光电性能研究与研究
机译:WO3的结构,光学和电致色彩特性:RF磁控溅射技术制备的MOO3薄膜