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机译:关于光学和电学确定的超薄氮化钛薄膜电阻率的差异
MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box217, 7500 AE Enschede, The Netherlands;
MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box217, 7500 AE Enschede, The Netherlands;
MESA+ Institute for Nanotechnology, University of Twente, P.O. Box217, 7500 AE Enschede, The Netherlands;
titanium nitride; resistivity; spectroscopic ellipsometry; current-voltage characteristics;
机译:溅射氮化钛薄膜的衬底和退火温度相关电阻率
机译:Salisbury屏幕光学滤色器,具有超薄氮化钛膜
机译:TiCl_4和NH_3分压对化学气相沉积氮化钛(CVD-TiN)膜Cl含量和电阻率的影响
机译:超薄氮化钛膜外延与高温钛离子
机译:脉冲激光沉积氮化钛薄膜的结构和电性能
机译:原位和实时纳米尺度使用光学和电气诊断工具对超薄金属膜生长的实时监测
机译:通过动态离子束混合产生的透明超薄氮化钛膜。