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机译:通过全氟丙烷等离子体处理原子层沉积提高聚合物基底上沉积的Al_2O_3薄膜的疏水性
Department of Mechatronics Engineering, Jeju National University, Jeju, 690-756, Republic of Korea;
Department of Mechatronics Engineering, Jeju National University, Jeju, 690-756, Republic of Korea;
Research Institute for Basic Sciences and Department of Physics, Jeju National University, Jeju, 690-756, Republic of Korea;
School of Electronic Engineering, Jeju National University, Jeju, 690-756, Republic of Korea;
Korean Institute of Machinery and Materials, Yuseong-Gu, Daejeon 305-343, Republic of Korea;
Al_2O_3; Atomic layer deposition; C_3F_8; Hydrophobicity; Contact angle; PEN;
机译:SiO_2中间层对4H-SiC衬底上等离子增强原子层沉积生长Al_2O_3薄膜性能的影响
机译:等离子体增强原子层沉积在聚合物基底上的TiO2薄膜的光催化功能涂层
机译:低温杂化ZnO / Al_2O_3层原子层沉积在聚合物基板上的薄膜封装研究(会议论文)
机译:通过衬底偏置控制通过等离子体增强原子层沉积法沉积的Al2O3薄膜的机械,结构和光学性质
机译:通过等离子增强化学气相沉积在聚合物基材上沉积无机薄膜。
机译:等离子体增强原子层沉积在低温下沉积的HfO2薄膜的结构光学和电学性质
机译:等离子体增强原子层沉积沉积的Al2O3薄膜中的电子捕获和结构缺陷
机译:等离子体增强原子层沉积ag薄膜的类似等离子体行为。