机译:调整反应溅射氧化铜薄膜的结构和优选取向
Univ Lorraine, CNRS, UMR 7198, Inst Jean Lamour, F-54011 Nancy, France;
Univ Lorraine, CNRS, UMR 7198, Inst Jean Lamour, F-54011 Nancy, France;
Univ Saarland, Dept Mat Sci, Funct Mat, D-66123 Saarbrucken, Germany;
Univ Lorraine, CNRS, UMR 7198, Inst Jean Lamour, F-54011 Nancy, France;
Univ Lorraine, CNRS, UMR 7198, Inst Jean Lamour, F-54011 Nancy, France;
Univ Lorraine, CNRS, UMR 7198, Inst Jean Lamour, F-54011 Nancy, France;
Univ Saarland, Dept Mat Sci, Funct Mat, D-66123 Saarbrucken, Germany;
Univ Lorraine, CNRS, UMR 7198, Inst Jean Lamour, F-54011 Nancy, France;
Copper oxides; Thin films; Reactive magnetron sputtering; Preferred orientation;
机译:通过反应性直流磁控溅射修改优选的<001>晶粒取向来调节锐钛矿型TiO 2 sub>薄膜的光催化活性
机译:通过反应性直流磁控溅射修改优选的<001>晶粒取向来调整锐钛矿型TiO2薄膜的光催化活性
机译:氧分压对太阳光驱动光催化反应溅射调谐氧化铜薄膜的影响
机译:反应磁控溅射制备的非晶铜氧化物薄膜的加工与表征
机译:压电氧化锌薄膜的反应溅射沉积:加工,结构和性能相关。
机译:反应磁控溅射制备二元氧化铜薄膜的相变和物理性质
机译:通过反应性直流磁控溅射修改优选的<001>晶粒取向来调整锐钛矿型TiO2薄膜的光催化活性