...
机译:液相沉积制备高介电常数的镍掺杂二氧化钛薄膜
Department of Electronic Engineering, Chung Yuan Christian University, Chung Li 32023, Taiwan, Republic of China;
Department of Materials Science and Engineering, MingDao University, Chang Hua 52345, Taiwan, Republic of China;
Department of Electrical Engineering, National Sun Yat-sen University, Kaohsiung 80424, Taiwan, Republic of China;
机译:不同次氧化钛对离子辅助电子束蒸发沉积制备二氧化钛薄膜性能的影响
机译:液相沉积制备的热退火氟化二氧化硅薄膜的表征
机译:通过基于温差的液相沉积制备高质量的掺氮氟化硅薄膜
机译:氧离子剂量对介电常数和通过离子束辅助沉积技术沉积在硅上的氧化钛薄膜表面粗糙度的依赖性
机译:脉冲反应直流磁控溅射技术制备的高介电常数薄膜的沉积和表征。
机译:雾化学气相沉积法制备纯锐钛矿相二氧化钛薄膜
机译:液相沉积制备高介电常数的镍掺杂二氧化钛薄膜
机译:金属有机化学气相沉积制备介质反射镜的高折射率。