机译:铟掺杂和退火对氧化镉薄膜微观结构和光学性能的影响
School of Materials Science and Engineering, University of Shanghai for Science and Technology, Shanghai 200093, People's Republic of China;
Center for Composite Materials, Harbin Institute of Technology, P. O. Box 3010, Yikuang Street 2, Harbin 150080, People's Republic of China;
Center for Composite Materials, Harbin Institute of Technology, P. O. Box 3010, Yikuang Street 2, Harbin 150080, People's Republic of China;
Center for Composite Materials, Harbin Institute of Technology, P. O. Box 3010, Yikuang Street 2, Harbin 150080, People's Republic of China;
机译:铟的添加和后退火对直流磁控溅射沉积镓掺杂氧化锌薄膜的结构,电学和光学性能的影响
机译:N_2气氛中的热处理对铟锡氧化物和氮掺杂铟锡氧化物射频溅射薄膜的化学,微结构和光学性能的影响
机译:铟掺杂氧化镉薄膜的结构,光电性能
机译:稳定剂对溶胶凝胶锡掺杂氧化铟薄膜微观结构和性能的影响
机译:纳米晶的未掺杂和掺杂的氧化铈薄膜的微结构及其电学和光学性质。
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构电学和光学性质的影响
机译:铟和氢共掺杂对DC磁控溅射沉积的氧化锌薄膜光学和电性能的影响