机译:从用于测量硅片上SiO_2薄膜厚度的光谱干扰信号中进行相位检索
Department of Physics, Technical University Ostrava, 17. listopadu 15, 70833 Ostrava-Poruba, Czech Republic;
interferometers; phase retrieval; theory; models; and numerical simulation;
机译:色散白光光谱法测量硅片上SiO_2薄膜的厚度
机译:光谱反射法和干涉法分析硅衬底对SiO_2薄膜厚度的影响
机译:硅晶片上SiO_2薄膜中的铁分布和铁诱导的负电荷
机译:CZ硅晶片TiO_2和SiO_2薄膜表面钝化研究
机译:使用原位椭偏仪在快速热处理中测量和控制硅片温度和氧化膜厚度。
机译:硅晶片上Bi-Te薄膜的电沉积以及微孔玻璃模板上的微柱阵列
机译:具有绝对相位恢复的色散白光光谱干涉法可测量薄膜
机译:冶金硅衬底上的硅薄膜 - 阶段II。专题报告第3号。薄膜多晶硅太阳能电池的稳定性