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机译:光谱反射法和干涉法分析硅衬底对SiO_2薄膜厚度的影响
Department of Physics, Technical University Ostrava, 17, listopadu 15, 708 33 Ostrava-Poruba, Czech Republic;
Department of Physics, Technical University Ostrava, 17, listopadu 15, 708 33 Ostrava-Poruba, Czech Republic;
Department of Physics, Technical University Ostrava, 17, listopadu 15, 708 33 Ostrava-Poruba, Czech Republic;
interferometers; structure and morphology; thickness; crystalline orientation and texture; theory; models; and numerical simulation;
机译:色散白光光谱法测量硅片上SiO_2薄膜的厚度
机译:使用光纤型低相干干涉法同时测量SiO_2 / Si晶片上的衬底温度和薄膜厚度
机译:使用反射仪和光谱解析相移干涉仪确定膜厚和表面轮廓
机译:白光光谱干涉法和反射法测量薄膜厚度
机译:通过X射线干涉法/全息术在锗/硅多层基板上的超薄有机膜的轮廓结构。
机译:富硅氧化硅薄膜中Er3 +发光的厚度依赖性优化
机译:用光谱反射法和干涉法分析硅衬底对SiO2薄膜厚度的影响
机译:冶金硅衬底上的硅薄膜 - 阶段II。专题报告第3号。薄膜多晶硅太阳能电池的稳定性