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Fabrication of gold nanostructures through pulsed laser interference patterning

机译:通过脉冲激光干涉图样制作金纳米结构

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摘要

In this Letter, we report on the experimental development and computational modeling of a simple, one-step method for the fabrication of diverse 2D and 3D periodic nanostructures derived from gold films on silicon substrates and over areas spanning 1 cm2. These nanostructures can be patterned on films of thickness ranging from 50 nm to 500 nm with pulsed interfering laser beams. A finite volume-based inhomogeneous multiphase model of the process shows reasonable agreement with the experimentally obtained topographies and provides insights on the flow physics including normal and radial expansion that results in peeling of film from the substrate.
机译:在这封信中,我们报告了一种简单的,一步一步的方法的实验开发和计算模型,该方法用于在硅衬底上以及跨过1 cm 2的区域上制造由金膜衍生的各种2D和3D周期性纳米结构。 sup>。这些纳米结构可以利用脉冲干扰激光束在厚度范围从50 nm到500 nm的薄膜上进行图案化。基于有限体积的过程非均质多相模型显示与实验获得的形貌合理吻合,并提供了包括正向和径向膨胀在内的流体物理洞察力,从而导致薄膜从基材上剥离。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2013年第22期|1-5|共5页
  • 作者单位

    Woodruff School of Mechanical Engineering, Georgia Institute of Technology, Atlanta, Georgia 30332, USA|c|;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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