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机译:交错间隙In0.53Ga0.47As / GaAs0.5Sb0.5异质结Esaki隧道二极管中的基准电流密度
Department of Electrical and Microelectronic Engineering, Rochester Institute of Technology, Rochester, New York 14623, USA|c|;
机译:交错间隙In_(0.53)Ga_(0.47)As / GaAs_(0.5)Sb_(0.5)异质结Esaki隧道二极管中的基准电流密度
机译:高电流密度的Si-InAs异质结Esaki隧道二极管
机译:高电流密度2D / 3D MoS_2 / GaN Esaki隧道二极管
机译:以创纪录的2.2 MA / cm 2 sup>峰值电流密度进行基准测试和改善III-V Esaki二极管性能,以增强TFET驱动电流
机译:Esaki二极管性能的全面映射和基准测试。
机译:电学和光学特性对AlAs / In0.53Ga0.47As / InAs共振隧穿二极管中生长中断的依赖性
机译:高电流密度2D / 3D Esaki隧道二极管
机译:Esaki隧道二极管的超晶格故事;简报图表