机译:Si / SiO2界面上的电子和空穴迁移率具有巨大的谷值分裂
Department of Physics, Tohoku University, Sendai, Miyagi 980-8578, Japan|c|;
机译:Si / SiO_2界面上的电子和空穴迁移率具有巨大的谷值分裂
机译:从界面到表面的直接充电器转移电子和孔的高效空间分离:将TiO2-C复合材料中的Ti-C键合界面的构建为光催化水分裂
机译:SiO2 / SiC界面氮注入对4H-SiC金属氧化物半导体场效应晶体管沟道中电子迁移率和自由载流子密度的影响
机译:具有TiN / HfO2 / SiO2栅堆叠的MOSFET中电子和空穴迁移率的研究
机译:考虑到辐射电子空穴重组单层WSE2和SiO2之间的界面热敏性
机译:室温下电子辐照在金属氧化物/ Si界面上形成无定形SiO2;在界面上写入电子束
机译:Si / SiO2界面上的电子和空穴迁移率具有巨大的谷值分裂
机译:近界面网络应变对siO2中质子迁移率的影响